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单晶碱抛光清洗机

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产品名称:单晶碱抛光清洗机

功能简介:对硅片表面进行抛光处理

工艺流程:预清洗→抛光→后清洗→酸洗→预脱水→烘干

设备特点:支持MES、RFD及选配在线称重功能;在线一键洗配槽,实现简单快速换液;工艺根据工艺要求循环量可调;适配多品牌添加剂,抛光效果好

产品名称

单晶碱抛光清洗机

型号

KSSDE

适用工艺路线

TOPCON、HJT、XBC等

功能简介

对硅片表面进行抛光处理

工艺流程

预清洗→抛光→后清洗→酸洗→预脱水→烘干

适用硅片尺寸

182x182mm、可兼容 18X-230 硅片多种尺寸

花篮数量

4、6篮

产能

182:≥16000片/小时;210:≥12500片/小时

碎片率

硅片厚度≥130um,碎片率<0.01%

功率/电压

310KW/380V 50Hz3 相5线制

设备特点

支持MES、RFD及选配在线称重功能;在线一键洗配槽,实现简单快速换液;工艺根据工艺要求循环量可调;适配多品牌添加剂,抛光效果好