产品名称

湿法刻蚀清洗机（链式）

型号

KSKSQXJ

适用工艺路线

PERC

功能简介

用于硅片表面抛光清洗处理

工艺流程

水膜→酸刻蚀→水洗→碱洗→水洗→酸洗→水洗→烘干

适用硅片尺寸

182x182mm、可兼容 18X-230 硅片多种尺寸

道数

5

带速

1.0-4.0m/min

碎片率

硅片厚度≥130um，碎片率<0.01%

功率/电压

30KW/380V 50Hz3 相5线制

设备特点

高带速精准带液刻蚀滚轮，避免边缘欠刻或过刻；精细化水膜控制，确保水膜覆盖完整无掉水；电导率实时监测药液浓度， 保证刻蚀工艺稳定；量产稳定3.5带速，少摩擦，耗材寿命更长